荷兰芯片半导体管制新规主要影响ASML的TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式DUV光刻系统，以及部分特定型号的浸润式DUV光刻机，包括NXT:2050i、NXT:1980Di；而45nm以上制程的干式DUV光刻机不受影响。 具体说明如下：
TWINSCAN NXT:2000i及后续浸润式系统：根据新规，ASML需向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统，即TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的型号。荷兰政府将决定是否授予许可证，并明确相关条件。
其他浸润式DUV光刻机：包括TWINSCAN NXT:2050i、NXT:2050i（重复提及，实际应为同一型号的不同表述或更新迭代）、NXT:1980Di。这些设备能够进行38nm-45nm制程的晶圆加工，属于新规管制范围。
45nm以上制程的干式DUV光刻机：如TWINSCAN XT:400L、XT:1460K、NXT:870等，这些设备用于65nm-220nm制程的晶圆加工，不在荷兰制裁清单内，发运不受新规管控。
管制范围：新规针对先进的45nm及以下芯片制造技术，涵盖ALD原子沉积设备、外延生长设备、等离子体沉积设备和浸润式光刻系统，以及相关技术、软件。
生效时间：新条例将于2023年9月1日生效，ASML可在生效前提交出口许可证申请，荷兰政府将视具体情况批准或拒绝。
EUV光刻机：此前已受到限制，不在此次新规讨论范围内。
